納米紋理在納米技術中起著越來越重要的作用。最近的研究表明，可以通過空間調節(jié)其納米級像素的高度來進一步增強其功能。但是，實現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性，因為它需要對納米像素進行“灰度”打印，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內。只有少數(shù)幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴格的要求，但通常其成本較高，并且它們中的大多數(shù)需要化學開發(fā)過程。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構灰度納米像素打印技術受到高度追捧。
近日，愛荷華州立大學的Jaeyoun Kim教授團隊在《ACS Nano》上介紹了一種通過納米“毛細力光刻”（CFL）實現(xiàn)聚合物納米像素的高垂直和水平分辨率灰度打印技術。該技術可以實現(xiàn)納米像素的高度調節(jié)：利用光控制某些光敏聚合物的毛細上升，使其停在預定高度（幾百納米）形成納米柱，其精度在10nm之內?？刂乒獾奈⒊叨瓤臻g圖案化將調節(jié)高度直接擴展為二維圖案化的灰度納米像素打印。由于光具有易于進行微米級圖案化的特性，因此該機制在高分辨率，二維圖案化灰度CFL上具有強大的潛力。
陣列硅納米柱的復制成型會在硬質聚二甲基硅氧烷（h-PDMS）板上形成圓柱形的納米孔（圖1a）?？勺贤饩€固化的聚合物NOA73作為毛細管填充物被旋涂，然后通過紫外線照射預固化（圖1b）。光敏聚合物薄膜的頂部僅部分固化，在固化的主體上留下納米級的薄液層。UV劑量Φ的增加（減少）使液層的厚度減少（增加）。然后使納米孔陣列和部分固化的薄膜共形接觸。拉普拉斯壓力將液相光敏聚合物帶入納米孔形成納米柱（圖1d）。當液相耗盡時毛細上升停止（圖1e），納米柱的最終高度hf可以通過限制可用光敏聚合物的體積來控制。
為了確認納米柱的最終高度hf主要取決于可用于CFL的光敏聚合物體積，作者將納米柱的體積均勻地分布在單個單元格的面積上，估算了在相同紫外線劑量下不同樣品液層的初始厚度t0。作者在單個NOA73薄膜上進行了樣品A和B的CFL，薄膜在受控的紫外線劑量（15 mW·cm–2）下固化，并測量其hf。圖2c顯示在不同UV劑量水平下t0的估計值。盡管納米柱的直徑相差很大（350 nm與260 nm），但對于共同的Φ值，樣品顯示出非常接近的t0，證實了納米柱的最終高度hf受可用光敏聚合物體積的控制。
圖1g和圖2a，b顯示了異常違反體積控制的模型。在低Φ范圍內，hf突然跳躍，在可達到的hf區(qū)域中留有禁區(qū)。這種不穩(wěn)定性不能通過平滑且高度連續(xù)增加的體積控制模型來解釋。并且隨著hf的增長，毛細上升變得越來越受到抑制。為了解釋這一異常現(xiàn)象，作者假設當部分固化的光敏聚合物中的有機分子吸附在h-PDMS表面上時可以使其增塑，不僅提高了其對有機分子本身的滲透性，而且還提高了對被捕獲空氣分子的滲透性。作者建立了塑化過程的定量模型，該模型表現(xiàn)出兩種狀態(tài)。一開始滲透率保持在較低水平，使納米孔可以用作不透氣的毛細管。但是，在納米柱超過某個閾值高度ht時，滲透率會迅速上升使h-PDMS成為“幾乎”透氣的。如圖3a，樣品A，C1，和C2所計算的ht值與它們測量的hs值吻合，結果支持“虛擬透氣性”的假設。
空間光調制可以以微尺度分辨率對光進行2D圖案化，作者利用這種特性將光控CFL擴展到納米像素的空間分辨灰度打印。作者采用了10.8μm間距的微鏡陣列作為空間光調制器。它可以以最高30 kHz的頻率單獨打開和關閉微鏡。作者首先將準直的紫外線引導到微鏡陣列上，以在空間上調節(jié)其反射級別（圖4a）?？梢允褂妙A編程的開/關時間序列來精確控制每個微鏡的紫外線反射的時均劑量。顯微鏡物鏡大致將2D UV圖案縮小4倍，縮減到最小特征大小為2.7×2.7um2像素。所得納米柱陣列的頂視圖AFM圖像（圖4d）和沿藍線的橫截面掃描（圖4e）表明，紫外線劑量的差異能夠轉化為納米柱高度的空間分辨調制。
該文章實現(xiàn)了光敏聚合物毛細上升到納米孔的納米級光學控制。能夠以納米級垂直分辨率控制最終的毛細上升高度，精度通常在5-8 nm范圍內。該技術可以提供快速，經(jīng)濟高效的解決方案，為“設計納米紋理”的廣泛實施和應用做出貢獻。
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